技術趨勢:GaAs on Si技術打破光和電藩籬,即將邁入實用化
摘要
在90年代末期IBM宣佈將SiGe﹙矽鍺製程﹚正式進入實用化,帶領業界跨入另一個半導體技術的新紀元。引進SiGe技術的最大意義是使矽晶圓的泛用性製程,在加入新材料之後,可大幅提昇頻率,而得以廣泛運用在
在90年代末期IBM宣佈將SiGe﹙矽鍺製程﹚正式進入實用化,帶領業界跨入另一個半導體技術的新紀元。引進SiGe技術的最大意義是使矽晶圓的泛用性製程,在加入新材料之後,可大幅提昇頻率,而得以廣泛運用在
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